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布魯克Dimension HPI原子力顯微鏡

簡要描述:布魯克Dimension HPI原子力顯微鏡(AFM)系列在為工業(yè)計量應用提供的可用速度和性能方面享有悠久的聲譽。Dimension HPI和PRO系統(tǒng)是專為大批量生產環(huán)境而設計的,能夠自動測量多種A??FM模式,同時確保大程度的易用性和低的每次測量成本,以進行質量控制,質量保證和故障分析。

  • 產品型號:Dimension HPI
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-01-26
  • 訪  問  量:1529

詳細介紹

品牌其他品牌產地類別進口
應用領域環(huán)保,化工,生物產業(yè),石油,能源

布魯克Dimension HPI原子力顯微鏡

HPI維度-用于R / D / QA / QC / FA的具有成本效益的精密計量

Dimension®原子力顯微鏡(AFM)系列在為工業(yè)計量應用提供高的可用速度和性能方面享有悠久的聲譽。Dimension HPI和PRO系統(tǒng)是專為大批量生產環(huán)境而設計的,能夠自動測量多種A??FM模式,同時確保大程度的易用性和低的每次測量成本,以進行質量控制,質量保證和故障分析。這些系統(tǒng)使用接觸,敲擊和PeakForceTapping®模式技術,使用戶能夠精確地控制探針與樣品的相互作用,從而提供較長的探針壽命,并具有數(shù)千次測量的高精度結果。

•在苛刻的大批量環(huán)境中具有出色的計量性能和功能
•單個AFM平臺中的自動測量和靈活的靈活性
•支持從研發(fā)到量產批量的各種應用
•較可靠的平臺和的支持

 

適用于工業(yè)的布魯克AFM技術

 

尺寸圖標HPI

Dimension平臺在聚合物,半導體,數(shù)據(jù)存儲,高亮度LED和顯示行業(yè)等領域擁有大的AFM安裝基礎。HPI利用開放訪問平臺,大樣本或多樣本支架以及眾多易于使用的功能,將原子力顯微鏡的強大功能帶給制造商,為您提供,*的解決方案QA / QC / FA中的納米級計量—經(jīng)濟高效且可靠。

 

較廣泛的測量類型

從我們*的PeakForce攻絲模式到傳統(tǒng)AFM模式,Dimension HPI系統(tǒng)提供了大范圍和靈活性,可滿足您對各種樣品的特定測量和表征需求

高精度的粗糙度,深度和高度測量

尺寸HPI使用PeakForce攻絲和布魯克專有的高*壽命探針,可提供從亞納米級到高深寬比溝槽的高度可重復且精確的粗糙度,高度和深度測量。

較全面的缺陷審查特征

可以在各種晶圓,基板和滑塊上定位并表征納米級缺陷。PeakForceQNM®可以*地提供組合的3D成像和機械性能信息。

布魯克Dimension HPI原子力顯微鏡快速納米電測量

具有導電AFM(CAFM)的FastScan技術可以以高掃描速率執(zhí)行納米級電流測量,從而大大提高了故障分析測量的效率。通過使用小型磁力顯微鏡(MFM)懸臂,F(xiàn)astScan HPI和PRO使用PeakForce Tapping為MFM應用提供了超過10倍的掃描速率改進,并具有出眾的數(shù)據(jù)質量。PeakForce KPFM™提供高的空間分辨率和準確的表面電勢測量。PeakForce TUNA™提供敏感的電導率測量。

精確的納米級機械制圖

布魯克*的PeakForce QNM和FastForce Volume™納米級機械制圖模式可以精確制圖機械性能-模量,剛度,附著力,耗散和變形-同時成像樣品的形貌和電性能。利用PeakForce QNM,可以對聚合物,薄膜和納米級缺陷進行無損測量,而這些缺陷是無法通過透射電子或掃描電子顯微鏡技術進行測量的。

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AFM_enclosure-closed_doors_FastScanPro_blacktop_a.png

Dimension HPI和Dimension PRO平臺在 為工業(yè)計量應用
提供高可用
速度和性能方面享有悠久的聲譽。

 

 

 

FastScan Pro配方窗口v1

配方窗口顯示了基于晶片的布局,用于在晶片內進行精確的用戶定義的XY測量位置。

自動測量多個樣品

 

AutoMET™全配方軟件提供快速,自動化的計量,簡單的操作和AFM適應性,可輕松捕獲關鍵到高質量的測量值。自動掃描地形,粗糙度,臺階高度,納米機械,納米電氣和其他計量模式。

易于使用,使每個用戶都成為AFM專家。

 

 

無論您的AFM經(jīng)驗水平如何,都可以實現(xiàn)精確的測量。ScanAsyst算法與AutoMET軟件一起可自動連續(xù)監(jiān)控圖像質量并進行必要的參數(shù)調整。

晶圓v1的FastScan Pro配方窗口

簡便的測量配方創(chuàng)建功能使工程師可以通過名稱定義位置,分配任何類型以及在每個位置進行編號測量。

支持從研發(fā)到生產運行的各種應用

  • 半導體:裸晶片粗糙度測量和缺陷檢定特性,納米節(jié)點電氣設備的特性和故障隔離以及精確的臺階高度和深度測量。
  • 數(shù)據(jù)存儲:基于生產的較精確,分辨率和高通量的滑塊計量,介質基板粗糙度和缺陷檢查特性,以及出色的分辨率,晶圓,介質和滑塊的電氣和磁故障分析特性。
  • 聚合物和薄膜:快速表征一個,數(shù)十個或數(shù)千個樣品,具有大的結果相關性,納米節(jié)點電氣設備的表征和故障隔離以及同時的形貌和機械性能映射。
  • 高亮度LED和太陽能材料:自動化的HB-LED圖案藍寶石(PSS)深度和形狀計量,精確的HB-LED基板粗糙度以及HBLED和太陽能材料的電特性。
  • 顯示器制造:用于顯示器開發(fā)的準確的納米級測量,自動測量納米級粗糙度以控制顯示質量以及在數(shù)千次測量后精確表征顯示器納米紋理

多組分聚合物共混物樣品

模量圖

使用PeakForce QNM成像的多組分聚合物共混物的模量圖。明確存在三種不同的成分:淺藍色成分(A),深藍色成分(B)和紅色/黑色成分(C)。(7μm掃描)。

Ra nm線圖

布魯克的原子力顯微鏡和高性能工業(yè)探頭可為較苛刻的關鍵質量納米級測量提供*且可靠的測量。

 

致力于保持您的正常運轉,并幫助您應對制造挑戰(zhàn)。

30周年紀念章

通過提高運營效率降低成本。

 

Dimension平臺在半導體,數(shù)據(jù)存儲,HB-LED和聚合物行業(yè)的所有AFM中擁有大的安裝基礎。

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